







單晶硅和多晶硅切片清洗會用到大量的去離子水對硅片清洗,水中的金屬離子會直接影響產品性能,
蘇州市創聯凈化設備有限公司是一家十幾年從事高純水設備設計制造安裝服務的專業性公司,產品普遍應用于各種微電子行業用高純水,如半導體生產、電子二級管生產、電子線路板生產、新能源電池生產、鋁箔腐蝕化成生產用高純水設備。在單晶和多晶硅生產過程中從原料高純硅粉生產、拉晶、多晶硅方舟、石英坩堝生產、硅片切割、電池片生產、半導體生產均會用到。
目前一般用高純水設備的水質普遍要求在18兆歐以上,基本上會采用二級反滲透+edi處理工藝。此處理工藝具有綠色環保、節能、運行穩定、操作簡便等優點。
單晶硅和多晶硅切片清洗會用到大量的去離子水對硅片清洗,水中的金屬離子會直接影響產品性能,
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目前一般用高純水設備的水質普遍要求在18兆歐以上,基本上會采用二級反滲透+edi處理工藝。此處理工藝具有綠色環保、節能、運行穩定、操作簡便等優點。
