瀏覽器自帶分享功能也很好用哦~本項目電子超純水設(shè)備產(chǎn)水流量24t/h，電阻率18兆歐以上，達到電子級水一級標準。
項目安裝竣工現(xiàn)場圖片展示，**我們來聊聊高純水設(shè)備有哪些問題
發(fā)往江蘇淮安XX有限公司24t/h電子級純水設(shè)備,本項目電子超純水設(shè)備產(chǎn)水流量24t/h，電阻率18兆歐以上，達到電子級水一級標準。
24T/H（噸/小時）高純水設(shè)備是一種用于生產(chǎn)高純度水的工業(yè)水處理系統(tǒng)，廣泛應(yīng)用于電子、醫(yī)藥、化工、電力等行業(yè)。以下是關(guān)于這種設(shè)備的一些關(guān)鍵信息：
1. 設(shè)備組成
24T/H高純水設(shè)備通常包括以下幾個主要部分：
預(yù)處理系統(tǒng) ：
多介質(zhì)過濾器 ：去除懸浮物、膠體、泥沙等。
活性炭過濾器 ：吸附有機物、余氯、異味。
軟化器 （可選）：降低水的硬度，防止后續(xù)膜結(jié)垢。
反滲透（RO）系統(tǒng) ：
采用高壓泵使水通過RO膜，去除90%~99%的溶解鹽、微生物和有機物。
產(chǎn)水電導(dǎo)率通常可控制在≤10 μS/cm（視原水水質(zhì)而定）。
電去離子（EDI）或混床系統(tǒng) （用于更高純度要求）：
EDI ：無需化學(xué)再生，連續(xù)制取高純水（電阻率≥15 MΩ·cm）。
混床 ：采用陰陽離子交換樹脂，適用于超純水（電阻率≥18 MΩ·cm）。
后處理系統(tǒng) （可選）：
紫外線殺菌器（UV）、精密過濾器（0.22μm）等，確保水質(zhì)無菌、無顆粒。
2. 典型工藝流程
3. 技術(shù)參數(shù)
產(chǎn)水量 ：24噸/小時（可根據(jù)需求定制）。
出水水質(zhì) ：
電阻率：≥15~18.2 MΩ·cm（取決于工藝）。
電導(dǎo)率：≤0.1 μS/cm（超純水級別）。
TOC（總有機碳）：≤10 ppb（用于電子行業(yè)）。
工作壓力 ：RO系統(tǒng)約1.01.5 MPa，EDI約0.20.5 MPa。
4. 設(shè)備選型要點
根據(jù)原水水質(zhì)（如TDS、硬度、COD等）設(shè)計預(yù)處理方案。
選擇RO膜型號（如抗污染膜、海水膜等）以適應(yīng)不同水源。
EDI或混床的選擇取決于產(chǎn)水電阻率要求及運行成本。
設(shè)備材質(zhì)（如304/316L不銹鋼）需符合行業(yè)標準（如GMP、USP）。
5. 維護與運行成本定期更換濾芯、RO膜及EDI模塊。
監(jiān)控系統(tǒng)壓差、產(chǎn)水水質(zhì)（在線電導(dǎo)率/TOC儀）。
能耗主要來自高壓泵和EDI模塊。
■半導(dǎo)體行業(yè)：用于晶元6~12寸切割、清洗、再生、封測用水、半導(dǎo)體設(shè)備清洗、電子級無塵布無塵服清洗。
■太陽能光伏行業(yè)：單晶硅、多晶硅切片清洗、太陽能電池、石英坩堝、多晶硅方舟、光伏玻璃、高純硅粉
■LCD、LED、OLED生產(chǎn)清洗用水，光學(xué)攝像頭清洗，光學(xué)材料清洗，導(dǎo)電玻璃清洗；
■半導(dǎo)體集成電路板，線路板生產(chǎn)清洗用超純水；
■鋰電池材料（磷酸鐵鋰、三元材料、鋰電池隔膜）、蓄電池、鋅錳電池生產(chǎn)用水
■電子級超純化學(xué)試劑用純水，納米級電子陶瓷材料純水、**磁性材料用純水、有色金屬、貴金屬冶煉用水、航空新材料生產(chǎn)用水、電容器材料腐蝕化成工藝用水。
以上是創(chuàng)聯(lián)凈化小李對高純水設(shè)備的幾點簡單介紹，如果需要更詳細的方案或設(shè)備報價，歡迎來咨詢我們呀。
二級反滲透24t/h高純水設(shè)備
本項目電子超純水設(shè)備產(chǎn)水流量24t/h，電阻率18兆歐以上，達到電子級水一級標準。
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24T/H（噸/小時）高純水設(shè)備是一種用于生產(chǎn)高純度水的工業(yè)水處理系統(tǒng)，廣泛應(yīng)用于電子、醫(yī)藥、化工、電力等行業(yè)。以下是關(guān)于這種設(shè)備的一些關(guān)鍵信息：
1. 設(shè)備組成
24T/H高純水設(shè)備通常包括以下幾個主要部分：
預(yù)處理系統(tǒng) ：
多介質(zhì)過濾器 ：去除懸浮物、膠體、泥沙等。
活性炭過濾器 ：吸附有機物、余氯、異味。
軟化器 （可選）：降低水的硬度，防止后續(xù)膜結(jié)垢。
反滲透（RO）系統(tǒng) ：
采用高壓泵使水通過RO膜，去除90%~99%的溶解鹽、微生物和有機物。
產(chǎn)水電導(dǎo)率通常可控制在≤10 μS/cm（視原水水質(zhì)而定）。
電去離子（EDI）或混床系統(tǒng) （用于更高純度要求）：
EDI ：無需化學(xué)再生，連續(xù)制取高純水（電阻率≥15 MΩ·cm）。
混床 ：采用陰陽離子交換樹脂，適用于超純水（電阻率≥18 MΩ·cm）。
后處理系統(tǒng) （可選）：
紫外線殺菌器（UV）、精密過濾器（0.22μm）等，確保水質(zhì)無菌、無顆粒。
2. 典型工藝流程
3. 技術(shù)參數(shù)
產(chǎn)水量 ：24噸/小時（可根據(jù)需求定制）。
出水水質(zhì) ：
電阻率：≥15~18.2 MΩ·cm（取決于工藝）。
電導(dǎo)率：≤0.1 μS/cm（超純水級別）。
TOC（總有機碳）：≤10 ppb（用于電子行業(yè)）。
工作壓力 ：RO系統(tǒng)約1.01.5 MPa，EDI約0.20.5 MPa。
4. 設(shè)備選型要點
根據(jù)原水水質(zhì)（如TDS、硬度、COD等）設(shè)計預(yù)處理方案。
選擇RO膜型號（如抗污染膜、海水膜等）以適應(yīng)不同水源。
EDI或混床的選擇取決于產(chǎn)水電阻率要求及運行成本。
設(shè)備材質(zhì)（如304/316L不銹鋼）需符合行業(yè)標準（如GMP、USP）。
5. 維護與運行成本定期更換濾芯、RO膜及EDI模塊。
監(jiān)控系統(tǒng)壓差、產(chǎn)水水質(zhì)（在線電導(dǎo)率/TOC儀）。
能耗主要來自高壓泵和EDI模塊。
■半導(dǎo)體行業(yè)：用于晶元6~12寸切割、清洗、再生、封測用水、半導(dǎo)體設(shè)備清洗、電子級無塵布無塵服清洗。
■太陽能光伏行業(yè)：單晶硅、多晶硅切片清洗、太陽能電池、石英坩堝、多晶硅方舟、光伏玻璃、高純硅粉
■LCD、LED、OLED生產(chǎn)清洗用水，光學(xué)攝像頭清洗，光學(xué)材料清洗，導(dǎo)電玻璃清洗；
■半導(dǎo)體集成電路板，線路板生產(chǎn)清洗用超純水；
■鋰電池材料（磷酸鐵鋰、三元材料、鋰電池隔膜）、蓄電池、鋅錳電池生產(chǎn)用水
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以上是創(chuàng)聯(lián)凈化小李對高純水設(shè)備的幾點簡單介紹，如果需要更詳細的方案或設(shè)備報價，歡迎來咨詢我們呀。
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